德國Hellma晶體材料LD-A

　　Hellma公司由KarlMayer于1922年在德國耶拿創(chuàng)立，最初專注于生產(chǎn)光學(xué)玻璃比色皿。隨著光學(xué)精密技術(shù)的迅猛發(fā)展，Hellma逐步擴(kuò)展產(chǎn)品線，涵蓋了超微量比色光學(xué)設(shè)備等領(lǐng)域。1995年，公司成功開辟新的產(chǎn)品方向，實(shí)現(xiàn)了纖維系列產(chǎn)品的開發(fā)。2010年，通過收購SchottLithotec，強(qiáng)化了晶體材料業(yè)務(wù)。

　　產(chǎn)品線與技術(shù)特點(diǎn)

　　核心產(chǎn)品：

　　比色皿：Hellma提供1700多種型號(hào)的比色皿，覆蓋石英和光學(xué)玻璃等多種材質(zhì)。這些比色皿光程范圍從0.01mm到100mm，適配紫外到紅外光譜（200nm-3500nm），如100-QS系列（島津UV1800配套）。

　　光纖探頭：Hellma于1995年光纖探頭，用于在線分光檢測(cè)。這些探頭耐高溫高壓，為樣本數(shù)據(jù)采集與測(cè)量過程同步進(jìn)行提供了可能，大大節(jié)省了實(shí)驗(yàn)時(shí)間，并使有毒物質(zhì)和放射性物質(zhì)的光學(xué)測(cè)量變得更加安全可靠。

　　晶體材料：Hellma的晶體材料包括氟化鈣（CaF?）單晶和多晶，透光范圍從130nm到9μm，折射率均勻性小于0.5ppm，適配光刻激光（193nm/248nm）。這些晶體材料在半導(dǎo)體生產(chǎn)微光刻中作為關(guān)鍵光學(xué)材料，被確立為投影和照明光學(xué)中準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)材料。

　　技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

　　精度：Hellma產(chǎn)品的光路公差為±0.01mm，窗口平整度小于4λ（λ=546nm），確保了測(cè)量的可重復(fù)性。

　　材料：采用高純度石英和氟化鈣等優(yōu)質(zhì)材料，單片熱結(jié)合結(jié)構(gòu)防泄漏，耐化學(xué)腐蝕。

　　制造工藝：Hellma以其高精度的生產(chǎn)工藝著稱，如比色皿的光程精度高，樣品腔內(nèi)徑誤差極小，透光窗口平行度高，減少了光線折射和反射導(dǎo)致的光強(qiáng)損失。

　　Hellma氟化鈣（CaF?）晶體是一種高性能光學(xué)材料，具有從深紫外到紅外波段的高寬帶透射率、低折射率、低光譜色散、出色的激光耐久性和抗輻照能力，廣泛應(yīng)用于精密光學(xué)、半導(dǎo)體制造、天文觀測(cè)、激光技術(shù)及科研醫(yī)療等領(lǐng)域。

　　核心特性

　　高寬帶透射率：Hellma氟化鈣晶體的透射波段范圍為130nm（深紫外）至8μm（紅外），部分資料顯示可達(dá)9μm甚至10μm，覆蓋真空紫外（VUV）、深紫外（DUV）、可見光及紅外（IR）等多波段需求。

　　低折射率：折射率（nd）為1.43384，低光學(xué)損耗，適配精密光學(xué)系統(tǒng)。

　　低光譜色散：阿貝數(shù)（vd）為95.23，低色散特性使其在色校正光學(xué)系統(tǒng)中（如天文望遠(yuǎn)鏡、高清鏡頭）能顯著提升成像質(zhì)量。

　　出色的激光耐久性：對(duì)157nm、193nm、248nm等準(zhǔn)分子激光波長(zhǎng)具有優(yōu)異耐受性，適用于光刻激光光學(xué)器件和光束傳輸系統(tǒng)，延長(zhǎng)組件壽命。

　　抗輻照能力：抵抗高能粒子輻射，適用于航空航天等惡劣環(huán)境。

　　高熱導(dǎo)率：熱導(dǎo)率為9.71W/（m·K），快速散熱，適配高功率激光場(chǎng)景。

　　高環(huán)境適應(yīng)性：大氣下使用溫度達(dá)600℃，真空干燥時(shí)可達(dá)800℃，機(jī)械強(qiáng)度高且抗潮解。

　　規(guī)格與定制

　　尺寸：多晶直徑可達(dá)440mm，單晶直徑可達(dá)250mm，厚度可定制至150mm。

　　晶體取向：支持<111>、<100>及隨機(jī)取向定制。

　　表面質(zhì)量：可選原始、切割、研磨、拋光等多種處理精度，平面度可達(dá)λ/10，光潔度20-10。

　　典型應(yīng)用

　　半導(dǎo)體微光刻：作為248nm與193nm微光刻技術(shù)中照明和投影光學(xué)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)材料，直接支撐45nm以下芯片制程精度。

　　天文觀測(cè)：用于高分辨率空間相機(jī)、天文望遠(yuǎn)鏡的光學(xué)元件，以及天基光學(xué)器件（如衛(wèi)星載荷），其低應(yīng)力雙折射特性確保信號(hào)傳輸完整性。

　　激光技術(shù)：作為激光諧振腔鏡、醫(yī)用激光器（如光學(xué)相干斷層成像設(shè)備）的核心材料，適配193nm、248nm等準(zhǔn)分子激光波長(zhǎng)。

　　科研醫(yī)療：用于紅外光譜傳感器、醫(yī)用激光器等設(shè)備。

德國Hellma晶體材料LD-A